磁気抵抗メモリ(MRAM)の技術動向と製品動向:福田昭のストレージ通信(150) 半導体メモリの技術動向を総ざらい(11)(1/2 ページ) 磁気抵抗メモリ(MRAM)の製造技術は22nm世代まで微細化 2018年8月に米国シリコンバレーで開催された、フラッシュメモリとその応用製品に関する世界最大のイベント「フラッシュメモリサミット(FMS:Flash Memory Summit)」でMKW Venture Consulting, LLCでアナリストをつとめるMark Webb氏が、「Annual Update on Emerging Memories」のタイトルで講演した半導体メモリ技術に関する分析を、シリーズでご紹介している。 なお講演の内容だけでは説明が不十分なところがあるので、本シリーズでは読者の理解を助けるために、講演の内容を適宜、補足している。あらかじめご了承されたい。 前回は