Tutorial
Tutorial
نیمه هادی
SILVACO
محمد مهدی خاتمی
تحت نظارت دکتر مجید شالچیان
:4الکترودها اتصاالت فلزی در ساختار نیمه هادی ما هستند که با اتصال کانتکت به انها میتوان از
خارج از قطعه به بخش های مختلف آن ولتاژ اعمال کرد .الکترودها نیز در طول و عرض مشخص
شده تعریف میشوند.
:5در قسمت دوپینگ میزان ناخالصی ها مشخص میشود .این دوپینگ به صورت یکنواخت با تمرکز
9.5e13و از نوع نیمه هادی pمیباشد که در جهت yدر ناحیه 1اعمال میشود.
:6در این قسمت دوپینگی با پروفایل از نوع گوسی و ثابت گوسی 0.1و به میزان 1e15و بطور
کامل از چپ تا راست و از لبه باال با میزان نفوذ عرضی 4و در جهت yاعمال میشود.
در حقیقت زمانی که یک قطعه ساخته میشود در بستری که در شکل زیر نشان داده شده است
قسمتی تحت نفوذ قرار میگیرد و خاصیت ماده از Pبه nویا برعکس عوض میشود .اما در
مراحل مقدماتی تحلیل قطعات نیمه هادی ما لبه های قطعه را نامحدود در نظر میگیریم و در
نفوذ ناخالصی در بستر متغییر نفوذ عرضی را چنان انتخاب میکنیم که گویی تمام سطح به طور
یکنواخت ناخالص شده است.
پارامتر نفوذ عرضی در دستورات ابزار
lat.char=1دیده تحت عنوان
میشود.
doping gaussian
characteristic=0.1
conc=1e15 n.type x.left=2
x.right=3 y.top=0
lat.char=1 direction=y
همچنین پنجره نفوذ ناخالصی از 2تا
3میکرون در نظر گرفته شده است.
اگر این پارامتر را زیاد کنیم کل سطح یکنواخت ناخالص میشود .مقدار عددی این پارامتر با
عرض قطعه رابطه دارد.
doping gaussian
characteristic=0.1
conc=1e15 n.type x.left=0
x.right=5 y.top=0
lat.char=4 direction=y
در این حالت پنجره نفوذ ناخالصی از
0تا 5میکرون در نظر گرفته شده
است.
7:Material material=si EG300=1.12
\ 8:models auger srh conmob b.electrons=2 b.holes=1
evsatmod=0 hvsatmod=0 bgn print temperature=300
9:contact name=cathode neutral
contact name=anode neutral
10:method newton
11:save outf=main1.str
:7ماده بکار رفته در بستر سیلیکون با تراز انرژی 1.2evدر دمای 300کلوین است.
:8در این قسمت مدل های پروفایل های مخالف را برای ابزار تعریف شده است تا بوسیله انها ساختار
تعریف شده را پایه زیری کند.
:9جنس اتصاالت هم قابل تعریف است بطور مثال میتوان از پالی سیلیکون هم در اتصاالت استفاده
کرد.
:10روش نیوتن از روشهای حل معادالت میباشد که تعریف شده است.
:11ساختارهای تعریف شده را در فایل هایی به گونه ای که گفته شده با پسوند name.strذخیره
میکنیم و در ادامه این ساختار های تعریف شده را بوسیله ابزار TonyPlotاز زیر مجموعه ابزارهای
SILVACOرسم میکنیم.
12:solve init
13:log outf=main1.log
14:solve vanode=0 vstep=0.01 vfinal=1 name=anode
solve vcathode=0 name=cathode
"15:extract init inf="main1.log
log off
:12در ابتدای پیکربندی قسمت محاسباتی نوشته میشود.
:13جواب محاسبات ریاضی برای رسم توسط TonyPlotباید در فایلی ذخیره شود که در ابن
قسمت این فایل قبل از پیکربندی محاسبات ایجاد شده و نتایج در آن قید میگردد.
:14برای اتصاالت فلزی که برای قطعه تعریف کردیم از خارج از قطعه ولتاژهایی را اعمال میکنیم و
این ولتاژها به روشی که نوشته شده است قابل سوئیپ کردن با پله های مشخص شده میباشد.
:15نتایج فایل الگ فراخوانی شده و با دستور log offدر این فایل ذخیره میشود.
# plot results
16:tonyplot main1.log
17:tonyplot main1.str
18:quit
:16ابزار TonyPlotاز فایل الگ که شما تعریف کرده اید مشخصه ولتاژ-جریان دیود را رسم میکند.
:17ابزار TonyPlotاز فایل ساختار که شما تعریف کرده اید ساختار قطعه را رسم میکند.
:18خط پایان برنامه.
نحوه بکارگیری قابلیت های ابزار TonyPlot
بر روی صفحه رسم شده با کلیک راست و گزینه Displayپنجره نشان داده شده را باز کنید.
در این صفحه میتوان اسکیل محورهای افقی و عمودی با خطی و یا لگاریتمی انتخاب کرد.
همچنین متغییر های این محورها هم قابل انتخاب است که برای محور افقی ولتاژ اعمال شده به
دیود و برای محور عمودی جریان بوجود آمده در دیود را انتخاب و رسم کردیم.
همچنین در صفحه ساختار رسم شدهربا کلیک راست و گزینه Displayپنجره نشان داده
شده را باز کنید .میتوانید مش بندی و نواحی اتصال و عناصر بکار رفته و پروفایل ناخالصی
عناصر و عمق اتصال و الکترودهای بکار رفته را مشاهده کنید که با کلیک چپ فعال میشوند.
سمت چپ مش بندی و عمق اتصال پیوند pnو محل قرار گیری الکتروها را مشاهده میکنید.
سمت راست تمرکز ناخالصی nو pرا در جهت عمق اتصال مشاهده میکنید.
همچنین میتوانید از قسمت Helpابزار به مثال های متنوع موجود در ابزار دسترسی پیدا کرده و
روند آنها را مرور کرده و با روش های بکار گفته شده بیشتری آشنا شوید.