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Sintesis en Fase Gaseosa

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SÍNTESIS EN FASE GASEOSA

Química del Estado Sólido

● Andrea Cerda Escobedo


● Diana Lizbeth Chávez Maldonado
● Hugo Salvador Sánchez Arredondo
Descripción General Los métodos de síntesis se dividen en tres
grupos principales:
● Métodos en fase líquida
● Métodos basándose en el crecimiento de la
superficie en condiciones de vacío
● Síntesis de fase gaseosa

La manipulación de las condiciones de síntesis


permite el control racional del tamaño y la forma
de las partículas y provee los medios para
adaptar las propiedades de los materiales a una
aplicación específica.
Síntesis en fase La síntesis de fase gaseosa requiere:

gaseosa
● La interacción directa de metales atómicos y
ligandos de fase vapor.

● Estabilidad en condiciones de alta temperatura de


la reacción para los productos. Esto se puede
aumentar cuando la condensación de los vapores
de metal y ligando se logra a bajas temperaturas,
en el rango de 4 a 273 K.
Etapas

1. Descomposición de precursores 2. Nucleación homogénea:

Se producen los monómeros condensables del Los flujos de gases con los monómeros
producto de interés. Requiere el establecimiento generados alimentan un reactor, con
de supersaturación, la cual es posible gracias a condiciones especiales para cada tipo de
diversos métodos químicos y físicos. reacción, usando flujo de masa controlado. Los
precursores pueden ser sometidos a
temperaturas de hasta de 1100°C de 1 a 5
segundos.
3. Colección de nanopartículas

Se filtran los productos generados y ocurren


distintos mecanismos de formación de partículas
que determinan las características finales de las
especies obtenidas. Estas pueden ser llevadas
por:

● Reacción química
● Coagulación
● Coalescencia
CONDICIONES

- Gases reactantes
- Temperaturas controladas
- Presiones controladas
- Catalizador (¿?)
NH3(l) Síntesis Haber-Bosch

- 400-500 °C
- 150-300 atmósferas
- Fe como catalizador
Síntesis de dióxido de
azufre

- 600-800 °C
- Presión moderada
- Un catalizador como
vanadio
SÍNTESIS EN FASE GASEOSA

DEPOSICIÓN QUÍMICA DE VAPOR DEPOSICIÓN FÍSICA DE VAPOR

PVD implica depositar un


CVD implica depositar un
material en un objeto
material en un objeto
mediante la vaporización
mediante la reacción
física del material. El
química de gases en un
material se vaporiza
ambiente controlado. El
mediante calor, impacto
material se deposita en el
mecánico o una
objeto a través de una
combinación de ambos. El
reacción química en lugar de
vapor se deposita en el
vaporización.
objeto para formar un
recubrimiento.
DEPOSICIÓN QUÍMICA DE VAPOR DEPOSICIÓN FÍSICA DE VAPOR

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