Nanoelectronica

Nanoelectrónica
Fabricación y caracterización de Nanodispositivos

Integrantes
○ Aguirre, Daniel
○ Álvarez Benítez, Martín
○ José, Nahuel
○ Lucero, Damíán
○ Polich, Daniel
○ Silva, Gerardo
○ Suárez, Ariel
○ Vaca, Guillermo
Fabricación de Nano dispositivos
Lo esencial: Cuarto Limpio
○ En condiciones comunes el aire tiene suspendidas miles de millones de partículas micrométricas, que
representarían una amenaza para el diseño a nivel micro y nano que habrá en el laboratorio.
○ Por ello, se acondiciona un espacio en el que, gracias a filtros de alta eficiencia, la suspensión de
partículas se reduce a mil por pie cúbico, a ese espacio se le conoce como cuarto limpio clase 1000.
○ Además de los filtros, el techo del cuarto limpio tiene abanicos instalados en el techo para generar un
flujo de aire unidireccional que arrastra todas las partículas hacia el suelo y son extraídas del cuarto a
través de rendijas.
○ “Un reflujo de aire de este tipo causa que después de muchos ciclos elimines todas las partículas o las
reduzcas de manera drástica”.
○ Pero las partículas suspendidas en el ambiente no son las únicas que se deben eliminar en el cuarto
limpio, también será necesario que los usuarios utilicen ropa especial, con porosidades muy pequeñas
que reducen la transferencia de partículas, a diferencia de las prendas convencionales.
○ “Lo único que estará descubierto son los ojos y se deben usar lentes”.
Técnicas de fabricación
○ Fotolitografía
○ Nano - Impresión
○ Erosión Iónica
La fotolitografía
La fotolitografía es un proceso empleado en la fabricación de dispositivos semiconductores

o circuitos integrados.
El proceso consiste en transferir un patrón desde una fotomáscara (denominada retícula) a
la superficie de una oblea. El silicio, en forma cristalina, se procesa en la industria en forma
de obleas. Las obleas se emplean como sustrato litográfico, no obstante existen otras
opciones como el vidrio, zafiro, e incluso metales.
La fotolitografía trabaja de manera análoga a la litografía empleada tradicionalmente en
los trabajos de impresión y comparte algunos principios fundamentales con los procesos
fotográficos.
La fotolitografía
Esta técnica es utilizada para definir la geometría de la superficie de los

diversos componentes de un circuito integrado.
Consiste en la utilización de un patrón semitransparente grabado en el
material previamente seleccionado para el dispositivo que se busca
fabricar, que se recubre con material fotosensible.
Al aplicarle luz, habrá secciones del recubrimiento que se van a eliminar
y otras que no. Las que se iluminan se van a solidificar transfiriendo el
grabado del molde hacia el sustrato
Nano-litografía
La nanolitografía o litografía a la escala del nanómetro, se refiere a la

fabricación de microestructuras con un tamaño de escala que ronda los
nanómetros. Esto implica la existencia de patrones litografiados en los que,
al menos, una de sus dimensiones longitudinales es del tamaño
de átomos individuales y aproximadamente del orden de 10 nm.
La nanolitografía se usa durante la fabricación de circuitos
integrados de semiconductores o sistemas nano electromecánicos,
conocidos como Nanoelectromechanical Systems o NEMS.
Nano-Impresión
Fue inventada por el profesor e ingeniero Stephen Chou y estudiantes de

la universidad de Princeton en New Jersey, Estados Unidos. La litografía
Nano-impresión se ha creado con el fin de fabricar dispositivos para el uso
eléctrico, óptico y biológico.
El funcionamiento es similar al de una imprenta, pues se utiliza un molde
que se presiona sobre el sustrato, previamente cubierto con una resina que
puede ser modificada para hacerse sólida.
La nano-impresión es una técnica que fue desarrollada como herramienta
para reducir el tamaño de los circuitos.
Nano-Impresión
El proceso de Nanoimprint Lithography (NIL) se utiliza para replicar

estructuras nanométricas en polímeros termoplásticos aplicando
presión y temperatura controladas
La nanoimpresión permite utilizar el polímero estructurado como
máscara de grabado
Nano-Impresión
Etapa 1: obtención de las nanoestructuras sobre una capa fina de polímero
Etapa 2: grabado mediante plasma de oxígeno (polímero residual), grabado húmedo o bien
grabado seco para iones reactivos ( Reactive Ion Etching , RIE).
La resolución lateral (dimensión mínima de las estructuras estampables) es de 30 nm.
Temperatura de trabajo: hasta 250ºC
Rango de presión de trabajo: de 5 a 70 bar. La presión se aplica de manera hidráulica, alcanzando

una uniformidad en el proceso de 10 nm sobre la máxima superficie estampable.
Nano-Impresión (Ventajas)
○ Una ventaja dominante de la litografía es su simplicidad escarpada

○ La litografía de la impresión trabaja con el modelo tridimensional. Es decir, los moldes que
se fabrican se hacen con múltiples capas.
○ Se utiliza una gran gama de materiales para elaborar las litografías
Nano-Impresión (Desventajas)
○ Una desventaja para los creadores de esta innovación es, que las plantillas pueden
presentar defectos a la hora de utilizarla, ya que éstas podrían estar desgastadas.
○ Muchos científicos esperan que la tecnología preste más atención a esta nueva creación
de la nanotecnología.
○ Los materiales que se utilizan contienen demasiados químicos; por lo tanto, se quiere
implementar el uso de componentes porosos.
Erosión Iónica
Mediante un haz de iones forma surcos en el material o, en su defecto, hace depósitos para
formar estructuras sobre la superficie, todo esto a nivel micro y nanométrico.
La irradiación con iones es un proceso fuera del equilibrio termodinámico durante el cual, se
producen modificaciones en la estructura del material a base de colisiones atómicas.
En muchos casos este tratamiento permite la creación de nuevas propiedades del material,
que no es posible obtener con métodos convencionales y que es ampliamente utilizada
para el procesamiento de semiconductores
Erosión Iónica
Con estas técnicas será posible contribuir con el desarrollo de una gran variedad de
dispositivos que van desde sensores de gas, oxígeno o hidrógeno, hasta detectores de
glucosa o de rayos ultravioleta, rayos gamma o alfa.
Eliminar material de una superficie a partir del impacto de partículas con una determinada
energía cinética y generalmente cargadas, se ha convertido en un método ampliamente
utilizado en múltiples aplicaciones, entre las que citaremos la limpieza, suavizado y análisis de
sustratos, alteración de las propiedades ópticas de material, depósito de láminas delgadas,
litografía iónica (FIB) y la formación y modelado de nanoestructuras en superficies extensas.
Caracterización de los Nanodispositivos
Nanocircuitos y Nanolitografía
Nanocircuitos son circuitos electrónicos que operan en la escala nanométrica. Al operar

dentro del rango cuántico, los efectos mecánico-cuánticos se hacen importantes. Al hacer
circuitos cada vez más pequeños, se puede incorporar más en un microchip.
Por ejemplo, transistor de un electrón (basado en el principio de bloqueo de Coulomb), que
involucran la operación de un transistor con un único electrón. Los sistemas
nanoelectromecánicos también pertenecen a esta categoría.
La nanofabricación puede ser usada para fabricar vectores paralelos de nanohilos
ultradensos, como una alternativa a la síntesis individual de nanohilos.
La nanolitografía se usa durante la fabricación de circuitos integrados de semiconductores o
sistemas nanoelectromecánicos, conocidos como Nanoelectromechanical Systems o NEMS.
Nanomateriales
Además de ser diminutos y permitir a un mayor número de transistores ser agrupados en un

único chip, la estructura uniforme y simétrica de nanotubos permite una mayor movilidad de
electrones, una constante dieléctrica mayor (mayor frecuencia) y una característica
simétrica electrón/hueco.
Las nanopartículas (nanopolvo, nanoracimo, o nanocristal) también entran en esta
categoría.
Nanoiónica
La nanoiónica es el estudio y la aplicación de fenómenos, propiedades, efectos y

mecanismos de procesos conectados con transporte rápido de iones (FIT) en sistemas a
escala nanométrica.
Aplicaciones potenciales pueden ser en dispositivos electroquímicos para la conversión y
almacenamiento de energía, carga e información
Nanofotónica
La Nanofotónica es la ciencia que se ocupa del estudio de las interacciones entre la materia
y la luz en la escala nanométrica, así como de la fabricación de material nanoestructurado.
Se logra modificando de forma natural o artificial, en sus propiedades físicas, químicas o de
estructura para explorar y aumentar las reacciones a esta escala cuando interactúa con la
luz láser.
Las propiedades de algunos materiales ópticos nuevos en contacto con la luz son
sorprendentes, algunos de ellos como la posibilidad de volver invisible un objeto.
Nanoalimentos
Un alimento es un nanoalimento cuando para su fabricación se utilizan herramientas o

procesos nanotecnológicos o bien incluyen nanopartículas, todo esto en cualquiera de las
etapas de su desarrollo, ya sea el cultivo, la producción o bien el empaquetado.
Nanomedicina
La nanomedicina es la aplicación de la nanotecnología en el campo de la medicina,

incluyendo de igual modo la futura aplicación de la nanotecnología molecular. En teoría,
con la nanotecnología se podrían construir pequeños nano-robots, nanobots que serían un
ejército a nivel nanométrico en nuestro cuerpo, programados para realizar casi cualquier
actividad.
Electronica molecular
Estas estructuras harían un uso importante de autoensamblaje molecular, diseñando los

subcomponentes para la construcción de una estructura mayor o incluso un sistema
completo por sí solo.
Una de las aplicaciones de electrónica molecular más prometedoras fue: Moléculas para
Memoria, Lógica y Amplificación.
Uno de los múltiples caminos en los que un diodo / transistor a nivel molecular podría
sintetizarse por la química orgánica.
Se ha propuesto un sistema modelo con una estructura de carbón spiro con un diodo
molecular de una longitud a lo largo de aproximadamente medio nanómetro, que podría
conectarse con cables moleculares de politiofeno. Cálculos teóricos mostraron que el diseño
es, en principio, válido y que hay esperanzas de que un sistema así pueda funcionar.

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Lo esencial: Cuarto Limpio

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Esta técnica es utilizada para definir la geometría de la superficie de los

La nanolitografía o litografía a la escala del nanómetro, se refiere a la

Fue inventada por el profesor e ingeniero Stephen Chou y estudiantes de

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Etapa 1: obtención de las nanoestructuras sobre una capa fina de polímero

La resolución lateral (dimensión mínima de las estructuras estampables) es de 30 nm.

Temperatura de trabajo: hasta 250ºC

Rango de presión de trabajo: de 5 a 70 bar. La presión se aplica de manera hidráulica, alcanzando

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Además de ser diminutos y permitir a un mayor número de transistores ser agrupados en un

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