zinc ingotとは 意味・読み方・使い方

Al content (mass %) in the galvanizing bath ≤Al content (mass %) in the zinc ingot ≤15 (mass %)... (1).例文帳に追加

めっき浴中Ａｌ含有量（質量％）≦亜鉛インゴット中Ａｌ含有量（質量％）≦１５（質量％） ・・ - 特許庁

To completely prevent the occurrence of dross in a hot dip galvanizing bath when a zinc ingot containing Al is charged into the hot dip galvanizing bath.例文帳に追加

溶融亜鉛めっき浴中にＡｌを含有する亜鉛インゴットを投入する際に、めっき浴中のドロス発生を完全に防止する。 - 特許庁

Further, the zinc alloy cast ingot may comprise Si, and the total content of the Cu and Si may be 1.8 to 4.3 mass%.例文帳に追加

また更に、Ｓｉを含有し、前記ＣｕとＳｉの合計含有量が１．８〜４．３質量％であっても良い。 - 特許庁

To provide a hot-dip galvanizing device capable of suppressing production and deposition of dross as a zinc ingot is charged in a molten zinc pot with a simple mechanism, and a hot-dip galvanized metal strip manufacturing method using the same.例文帳に追加

溶融亜鉛ポットへの、亜鉛インゴットの投下に伴って、ドロスが発生、堆積するのを、簡単なしくみで抑制できる、溶融亜鉛めっき装置およびそれを用いた溶融亜鉛めっき金属帯の製造方法を提供する。 - 特許庁

The charging part of the zinc ingot is surrounded with a shield plate, and it is desirable to remove the dross floated up to the upper part in the inside of the surroung plate and that piled on the bottom part.例文帳に追加

亜鉛インゴットの投入部を遮蔽板で囲み、その内側で上部に浮上したドロスと底部に堆積したドロスを除去するのが好適である。 - 特許庁

This method can easily be applied with a device having the shield plate 8 or a filter 9 surrounding the charging part of the zinc ingot in the galvanizing bath.例文帳に追加

この方法は、めっき浴の亜鉛インゴット投入部を囲む遮蔽板８またはフィルター９を備えた本発明の装置により容易に実施できる。 - 特許庁

To provide a hot-dip galvanizing apparatus which inhibits dross from forming and depositing when having charged a zinc ingot into a hot-dip galvanizing pot, with a simple mechanism, and to provide a method for manufacturing a hot-dip galvanized metal strip with the use of it.例文帳に追加

溶融亜鉛ポットへの、亜鉛インゴットの投下に伴って、ドロスが発生、堆積するのを、簡単なしくみで抑制できる、溶融亜鉛めっき装置およびそれを用いた溶融亜鉛めっき金属帯の製造方法を提供する。 - 特許庁

The zinc alloy cast ingot comprises 3.5 to 18 mass% of Al, and the balance Zn with inevitable impurities, and the average crystal grain size of a eutectic structure is ≤40 μm.例文帳に追加

Ａｌを３．５〜１８質量％含有し、残部がＺｎおよび不可避的不純物であって、共晶組織の平均結晶粒径が４０μｍ以下である。 - 特許庁