area formationとは 意味・読み方・使い方

When a chip 11 wherein a device formation area 2 and a PCM formation area 3 are provided is formed in a wafer 1 as a substrate and an epitaxial layer is formed in the device formation area 2, no epitaxial layer is provided in the PCM formation area 3.例文帳に追加

シリコン基板であるウェハ１内に、デバイス形成領域２とＰＣＭ形成領域３とが設けられたチップ１１を形成し、デバイス形成領域２にエピタキシャル層を形成する際に、ＰＣＭ形成領域３にはエピタキシャル層を形成しない。 - 特許庁

In the circumferential area of the NOR-type flash memory formation area 2 and the DINOR-type flash memory formation area 3, a peripheral circuit formation area 7 including transistors, etc., for a peripheral circuit is formed.例文帳に追加

さらに、ＮＯＲ型フラッシュメモリ形成領域２及びＤＩＮＯＲ型フラッシュメモリ形成領域３の周辺領域に周辺回路用のトランジスタ等を含む周辺回路形成領域７が作り込まれている。 - 特許庁

First a frame for constituting a coil formation area on a plating bedding film for coil formation is formed.例文帳に追加

先ず、コイル形成用のメッキ下地膜上に、コイル形成領域を画成するフレームを形成する。 - 特許庁

A film 16 including a first metal is formed in an NMOSFET formation area 80 and a PMOSFET formation area 82, and the film 16 is removed from the P-channel MOSFET formation area 82.例文帳に追加

ＮＭＯＳＦＥＴ形成領域８０とＰＭＯＳＦＥＴ形成領域８２に第１金属を含む膜１６を形成し、ＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域８２から膜１６を除去する。 - 特許庁

WIDE AREA PRINTING SYSTEM, SERVER, COMMUNICATION TERMINAL DEVICE, AND IMAGE FORMATION DEVICE例文帳に追加

広域印刷システム、サーバ、通信端末機器及び画像形成装置 - 特許庁

SILVER HALIDE PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND FORMATION OF AREA GRADATION IMAGE例文帳に追加

ハロゲン化銀感光材料及び面積階調画像の形成方法 - 特許庁

A high permittivity film 20 is formed in the N-channel MOSFET formation area 80 and the P-channel MOSFET formation area 82.例文帳に追加

次いで、ＮチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域８０とＰチャネルＭＯＳＦＥＴ形成領域８２に高誘電率膜２０を形成する。 - 特許庁

While a large part of area is turned to the formation area 16 of a prescribed film thickness, a partial area (area where foreign substances are removed) is formed to be the formation area 17 of a film thickness thinner than the prescribed film thickness.例文帳に追加

大部分の領域が所定膜厚の形成領域１６となるが、一部の領域（異物が除去された領域）が所定膜厚よりも薄い膜厚の形成領域１７となる形で成膜される。 - 特許庁