TMgとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ブドウ糖再大吸収値
「TMg」を含む例文一覧
該当件数 : 36件
Then, the supply amount of the TMG or TEG is reduced to be smaller than that in the second growth process (a third growth process).例文帳に追加
次に、TMG又はTEGの供給量を、第2の成長工程よりも小さくする(第3の成長工程)。 - 特許庁
In a growth method of a nitride semiconductor thin film, TMG (trimethyl gallium) or TEG (triethyl gallium) is supplied to a terrace 202 formed in a restricted region 102 by a step-flow growth (a first growth process) of a GaN substrate 101 having a mis-cutting, wherein a supply amount of the TMG or TEG is larger than that in the first growth process.例文帳に追加
ミスカットを有するGaN基板101のステップフロー成長(第1の成長工程)により制限領域102内に形成されたテラス202に、第1の成長工程よりも大きな供給量でTMG又はTEGを供給する。 - 特許庁
In a method for forming this GaN film, a GaAs epitaxial layer is formed on a GaAs substrate by introducing AsH3 and TMG (process A), and a GaN buffer layer is formed by introducing DMHy and TMG (process B).例文帳に追加
AsH_3とTMGを導入してGaAs基板上にGaAsエピタキシャル層を形成し(プロセスA)、DMHyとTMGを導入してGaNバッファ層を形成する(プロセスB)。 - 特許庁
Consequently, the p-type carrier density can be controlled by adjusting the ratio of TMG and TEG of the Ga material.例文帳に追加
従って、Ga原料のTMGとTEGの比率を調整することで、p型キャリア濃度を制御できる。 - 特許庁
Subsequently, before growing a barrier layer, a growth interruption process is performed in order to turn both TMG and TMA off.例文帳に追加
次に、バリア層を成長させる前に、TMG、TMAを共にオフとする成長中断工程を行う。 - 特許庁
Finally, both TMG and TMA are turned on, and a second growth process of growing the barrier layer (AlGaN layer) is performed.例文帳に追加
次に、TMGと共にTMAをオンとし、バリア層(AlGaN層)を成長させる第2成長工程を行う。 - 特許庁
When GaAs crystal is grown, TEG and TMG of specified mixing ratio are used as a material for Ga of group III.例文帳に追加
GaAs結晶を成長させる際、III族のGaの原料として所定の混合率のTEGとTMGとを用いる。 - 特許庁
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Wiktionary英語版での「TMg」の意味 |
tmg
出典:『Wiktionary』 (2015/02/24 13:55 UTC 版)
別の表記
- TMG
名詞
tmg
- Trimethylgallium, the most preferred metalorganic source of Gallium used in MOCVD of compound semiconductors for opto-electronics applications.
- (有機化学) trimethylglycine
「TMg」を含む例文一覧
該当件数 : 36件
In the growth method of the nitride semiconductor thin film, TMG or TEG is supplied to a terrace 202 formed in a restricted region 102 by a step-flow growth (a first growth step) of a GaN substrate 101 having a mis-cutting at a second set value T2 which is a substrate temperature lower than that of the first growth step.例文帳に追加
ミスカットを有するGaN基板101のステップフロー成長(第1の成長工程)により制限領域102内に形成されたテラス202に、第1の成長工程よりも低い基板温度である第2の設定値T2でTMG又はTEGを供給する。 - 特許庁
As the material gas, TMA is used for an Al material, the mixed gas of TEG and TMG is used for a Ga material, and arsine is used for an arsenic material.例文帳に追加
原料ガスとしては、Al原料にTMA、Ga原料にTEGとTMGの混合ガス、砒素原料にアルシンを用いた。 - 特許庁
A correction signal generation circuit 40 generates a signal Scp based on the signal TMG and a correction value Vcp and imparts it to the counter 10.例文帳に追加
補正信号生成回路40は、信号TMGと補正値Vcpとに基づき、信号Scpを生成してカウンタ10に与える。 - 特許庁
When the engine start instruction is not issued (NO in S60), the present differential torque ΔTEn is set as the torque assist amount Tmg as it is (S90, S80).例文帳に追加
エンジン始動時でないならば(S60否定)、現在の差分トルクΔTEnをそのままトルクアシスト量Tmgとする(S90、S80)。 - 特許庁
As the source material 28, an organic source of TMG (trimethylgallium) or the like can be used, and as the nitrogen-containing gas, a nitrogen radical-containing gas can be used.例文帳に追加
ソース物質28としては、TMG(トリメチルガリウム)等の有機ソースを用いてもよく、窒素含有ガスとしては、窒素ラジカルを含むガスを用いてもよい。 - 特許庁
When a carrying sensor 27 detects a rear end of a former sheet material S, the operation for preparing feeding of a following sheet material S is started, and a register sensor 7 detects re-carrying of the former sheet material S to the image forming unit by a register roller 8, and informs with the TMG signal 47 to start the feeding operation of the following sheet material S.例文帳に追加
先のシート材Sの後端を搬送センサ27で検知したら次のシート材Sの給送準備動作を開始し、先のシート材Sのレジストローラ8による画像形成部への再搬送をレジセンサ7で検知し、TMG信号47によって通知して次のシート材Sの給送動作を開始する。 - 特許庁
Shift registers 15, 17 latch as a system changeover control signal (g) an output of the shift register 11 of the signal extract section 1 by 4 frames based on a TMG signal (c).例文帳に追加
信号抽出部1のシフトレジスタ11の出力をTMG信号cによって、シフトレジスタ15,17にて系切り替え制御情報gが4フレーム分ラッチされる。 - 特許庁
During the course of growing the GaN buffer layer by heating, a GaN film is formed by introducing AsH3 (process C), and thereafter, introducing DMHy and TMG.例文帳に追加
GaNバッファ層を加熱して成長させる過程において、AsH_3を導入し(プロセスC)、その後DMHyとTMGを導入してGaN膜を形成する。 - 特許庁
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