| 意味 | 例文 (46件) |
Org-1とは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「Org-1」の意味 |
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Org-1
| fly | 遺伝子名 | Org-1 |
| 同義語（エイリアス） | optomotor-blind-related gene-1; org-1; CG11202; optomotor-blind-related-protein-1; Dm-ORG-1; optomotor-blind-related-gene-1; omb-related gene-1 | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:31778 | |
| その他のDBのID | FlyBase:FBgn0021767 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「Org-1」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 46件
SeeAlso X(7), Xserver(1), xdm(1), xinit(1), XF86Config(5), xf86config(1), xf86cfg(1),xvidtune(1), apm(4), ati(4), chips(4), cirrus(4), cyrix(4), fbdev(4), glide(4),glint(4), i128(4), i740(4), i810(4), imstt(4), mga(4), neomagic(4), nv(4),r128(4), rendition(4), s3virge(4), siliconmotion(4), sis(4), sunbw2(4),suncg14(4), suncg3(4), suncg6(4), sunffb(4), sunleo(4), suntcx(4), tdfx(4),tga(4), trident(4), tseng(4), v4l(4), vesa(4), vga(4), README http://www.xfree86.org/current/README.html, RELNOTES http://www.xfree86.org/current/RELNOTES.html, README.mouse http://www.xfree86.org/current/mouse.html, README.DRI http://www.xfree86.org/current/DRI.html, Status http://www.xfree86.org/current/Status.html, Install http://www.xfree86.org/current/Install.html.発音を聞く 例文帳に追加
関連項目X(7), Xserver(1), xdm(1), xinit(1),XF86Config(5x), xf86config(1), xf86cfg(1), xvidtune(1),apm(4),ati(4),chips(4),cirrus(4),cyrix(4),fbdev(4),glide(4),glint(4),i128(4),i740(4),i810(4),imstt(4),mga(4),neomagic(4),nv(4),r128(4),rendition(4),s3virge(4),siliconmotion(4),sis(4),sunbw2(4),suncg14(4),suncg3(4),suncg6(4),sunffb(4),sunleo(4),suntcx(4),tdfx(4),tga(4),trident(4),tseng(4),v4l(4),vesa(4),vga(4),README,RELNOTES,README.mouse,README.DRI,Status,Install - XFree86
Motion prediction is performed per block with Org(t) as a standard image and Org(t+1) as a reference image to obtain a motion vector (S1).例文帳に追加
Org(t)を基準画とし、Org(t+1)を参照画としてブロック単位の動き予測を行い、動きベクトルを得る(S1)。 - 特許庁
Addition reliability determination is performed per pixel with the standard image Org(t) and the MC image MC(t+1) to obtain a weighting factor (S3).例文帳に追加
Org(t)と、MC(t+1)とから画素単位の加算判定を行い、加算重みを得る(S3)。 - 特許庁
The standard image Org(t) and the MC image MC(t+1) are added with the weighting factor to obtain an NR image NR(t) after processing (S4).例文帳に追加
Org(t)と、MC(t+1)とが加算重みによって加算され、処理後のNR(t)を得る(S4)。 - 特許庁
The escape positions of the washing tool body are located near both positions A, B (Org. 1, Org. 2).例文帳に追加
洗浄具本体の待避位置は、位置Ａ，Ｂの両方の近傍に設けられる（Ｏｒｇ．１，Ｏｒｇ．２）。 - 特許庁
A slurry 3 of org. waste 1 is heat-treated at 30-90°C to solubilize the org. waste 1.例文帳に追加
有機性廃棄物１のスラリー３を、３０乃至９０℃に加熱処理して、有機性廃棄物１を可溶化する。 - 特許庁
Org Distribution. After the installation of Xorg was successful, follow the instructions from xorgconfig(1) .発音を聞く 例文帳に追加
それから xf86configツールのドキュメントを読んでこれに従ってください。 - FreeBSD
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「Org-1」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 46件
Org. wastewater is decomposed by biological treatment in an aeration tank 1 and this dicomposed org. wastewater is separated into supernatant water and sludge in a sedimentation tank 2.例文帳に追加
有機性排水を曝気槽１で生物処理により分解し、分解した有機性排水を沈殿槽２で上澄水と汚泥とに分離する。 - 特許庁
The spin chuck 2 is rotated and the org. material is spread by centrifugal force to be applied on the semiconductor substrate 1.例文帳に追加
スピンチャック２が回転して有機材料は遠心力で拡がり半導体基板１上に塗布される。 - 特許庁
An intermediate layer 2 of a material not invaded by photocatalytic action is interposed between the surface of an org. base material 1 and a photocatalyst layer 3 and the distance between the surface of the org. base material 1 and the photocatalyst layer 3 is set to 3.2 μm or more.例文帳に追加
有機基材１の表面と光触媒層３との間に、光触媒作用によって侵されない材料の中間層２を介在させ、有機基材表面と光触媒層との間の距離を３．２μｍ以上とする。 - 特許庁
Org. waste water is subjected to aerobic biological treatment in an aeration tank 1 and the treated waste water is subjected to solid-liquid separation treatment in a sedimentation tank 2 to obtain treated water.例文帳に追加
有機性排水を曝気槽１で好気性生物処理し、沈殿槽２で固液分離して処理水を得る。 - 特許庁
In this case, if the org. waste water is made to flow out from the methane formation tank 2 is subjected to the decarboxylation treatment before returning the org. waste water to the acid formation tank 1, a supersaturated content of the carbon dioxide is removed and alkali supply is reduced at the acid formation tank 1.例文帳に追加
この場合、メタン生成槽２から流出される有機性排水を酸生成槽１への返送前に脱炭酸処理すると、過飽和分の二酸化炭素が除去され、酸生成槽１においてアルカリの供給量を低減できる。 - 特許庁
After subjecting the org. waste containing the nitrogen to the acid fermentation at an acid fermentation tank 1, a part of acid fermentation liq. is introduced into a methane fermentation tank 2.例文帳に追加
窒素を含む有機性廃棄物を酸醗酵槽１で酸醗酵させた後、一部をメタン醗酵槽２に導入する。 - 特許庁
A semiconductor substrate 1 is placed on a spin chuck 2 and an opening-closing valve 5 is operated to drip a predetermined amt. of an org. material from a nozzle 3.例文帳に追加
半導体基板１がスピンチャック２に載置され、開閉弁５が作動し所定量の有機材料がノズル３より滴下される。 - 特許庁
(1) A soln. or slurry containing 2.5 g equivalent/kg or more of alkali is added to an org. concentrate containing 3 mg/kg or more of sulfulic acid acidic ferric sulfate as Fe to hold the pH of the org. concentrate to 6-8.例文帳に追加
(1) 硫酸酸性硫酸第二鉄をＦｅとして３ｍｇ／ｋｇ以上含有する有機性濃縮物に、アルカリ２．５ｇ当量／ｋｇ以上を含有する溶液またはスラリを添加して該有機性濃縮物のｐＨを６〜８に保持する有機性濃縮物の無臭化方法。 - 特許庁
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