NAFとは 意味・読み方・使い方

An apparatus includes the NAF and a means for transmitting a public identifier to a BSF, wherein the public identifier is an identifier for the NAF to communicate with user equipment (UE) via a Ua interface.例文帳に追加

本発明の具現化により提供される装置の一例には、ネットワークアプリケーション機能部（NAF）を含む装置であって、公開識別子をブートストラップサーバー機能部（BSF）へ送信する手段、ただし前記公開識別子は、前記ネットワークアプリケーション機能部が、ユーザ装置（UE）とのUaインターフェースを介する通信のために使用する識別子である、前記送信する手段を備える、装置が含まれる。 - 特許庁

To allow a boot strap server function (BSF) to verify a relationship between a public identifier of a network application function (NAF) and an internal identifier of the NAF in a general authentication architecture (GAA) for third-generation wireless networks.例文帳に追加

第３世代無線ネットワークのための汎用認証アーキテクチャ（ＧＡＡ）において、ブートストラップサーバー機能部（ＢＳＦ）が、ネットワークアプリケーション機能部（ＮＡＦ）の公開識別子と、そのＮＡＦの内部識別子との関係を検証できるようにする。 - 特許庁

CaCO_3 filled in the reaction tower 5 reacts with NaF in the waste liquid to generate CaF_2 and Na_2CO_3.例文帳に追加

反応塔５に充填された炭酸カルシウム、廃液中のフッ化ナトリウムと反応してフッ化カルシウムと炭酸ナトリウムを生じる。 - 特許庁

Heating ovens 80, 81 for heating the NaF pellets packed in the HF adsorption columns 60 to 63 are provided.例文帳に追加

ＨＦ吸着塔６０〜６３に充填されたＮａＦペレットを加熱するための加熱炉８０，８１が設けられる。 - 特許庁

The Mo-based sputtering target is formed of a sintered body comprising NaF powder having a mean grain size of ≤15 μm and Mo powder having a mean grain size of ≥20 μm, contains 0.1-8 mass% NaF and has a relative density of ≥90% and a transverse rupture strength of ≥150 N/mm^2.例文帳に追加

平均粒径１５μｍ以下のＮａＦ粉末と平均粒径２０μｍ以上のＭｏ粉末との焼結体からなり、ＮａＦを０．１〜８質量％含有し、相対密度９０％以上かつ抗折力が１５０N／ｍｍ^2以上であるＭｏ系スパッタリングターゲットである。 - 特許庁

A NaF-containing waste liquid contained in the alkaline scrubber is stored in a water-quality regulating tank 1 and the stored waste liquid is added with HCl to be acidic.例文帳に追加

アルカリスクラバーに含まれるフッ化ナトリウム含有廃液を水質調整槽１に貯留して、貯留された廃液に塩酸を添加して酸性とする。 - 特許庁

Al2O3: 2-10 wt.%, CaF2: ≤30 wt.% (including 0%) and NaF: ≤10 wt.% (including 0%).例文帳に追加

ＣａＯ／ＳｉＯ_2 ：０．６〜１．２ …（２） Ａｌ_2 Ｏ_3 ：２〜１０重量％ …（３） ＣａＦ_2 ：３０重量％以下（０％を含む） …（４） ＮａＦ：１０重量％以下（０％を含む） …（５） - 特許庁

The process for producing the sputtering target comprises the steps of: forming a molded object comprising a mixed powder composed of an NaF powder and a Cu-Ga powder or a mixed powder composed of an NaF powder, a Cu-Ga powder and a Cu powder; and sintering the molded object in a vacuum atmosphere, an inert gas atmosphere or a reductive atmosphere.例文帳に追加

また、このスパッタリングターゲットを作製する方法は、ＮａＦ粉末とＣｕ−Ｇａ粉末との混合粉末、又はＮａＦ粉末とＣｕ−Ｇａ粉末とＣｕ粉末との混合粉末からなる成形体を形成し、その後、真空、不活性ガスまたは還元雰囲気中で焼結する工程を有している。 - 特許庁