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BCBとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ブリリアントクレシルブルー
「BCB」を含む例文一覧
該当件数 : 37件
a verse form with a rhyme scheme: aba bcb cdc, etc.発音を聞く 例文帳に追加
韻体系を持つ韻文形体：aba,bcb,cdcなど - 日本語WordNet
Further, the Ti is implanted near the BCB surface and a reaction region 24 between BCB and Ti is formed, for enhanced tight contact between the BCB and Cu.例文帳に追加
さらにBCB表面近傍にTiが注入され、BCBとTiの反応領域２４が形成されることにより、BCBとCuの密着性を高められる。 - 特許庁
To provide a low-resistance copper wiring without using a barrier metal by improving tight-contact property of Cu and BCB(benzocyclobutane).例文帳に追加
CuとBCBの密着性を改善することにより、バリアメタルを用いない低抵抗な銅配線を実現する。 - 特許庁
Prior to a Cu film 25 is deposited on the surface of an inter- layer insulating film 21 comprising BCB, Ti is implanted in to the surface of the inter-layer insulating film 21 comprising the BCB using a Ti ion 23 extracted from an ionized plasma of Ti.例文帳に追加
BCBで構成される層間絶縁膜２１の表面にCu膜２５を堆積する前に、Tiのイオン化プラズマから引き出されたTiイオン２３で、BCBで構成される層間絶縁膜２１表面にTiを注入する。 - 特許庁
Due to the effect of a part 24 where BCB was nitrided by Ti ion, no peeling of the Cu film 25 takes place during polishing or that of the Cu wiring 26 in a post process.例文帳に追加
TiイオンでBCBが窒化された部分２４の効果により、研磨中のCu膜２５の剥離や、後工程でのCu配線２６の剥離は発生しない。 - 特許庁
The resin padding part 24 is formed so as to pad the mesa parts 12, 52 and contains BCB resin.例文帳に追加
樹脂埋込部24は、半導体メサ部12,52を埋め込むように設けられＢＣＢ樹脂を含む。 - 特許庁
The surface reforming method includes a step A of forming a BCB layer on a surface of a target object, and a step B of exposing the top surface of the BCB to a CF_4 plasma.例文帳に追加
表面改質方法が、対象物体の表面上にＢＣＢ層を形成する工程Ａと、前記ＢＣＢ層の上面をＣＦ_4プラズマに曝す工程Ｂと、を含んでいる。 - 特許庁
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「BCB」を含む例文一覧
該当件数 : 37件
Four metallic layers are provided on the silicon substrate 109 and BCB thin films 106.例文帳に追加
シリコン基板１０９及びＢＣＢ薄膜１０６上には４層の金属層が設けられている。 - 特許庁
After mixing a liquid divinylsiloxane bisbenzocyclobutene(DVS- BCB) monomer with a carrier gas, the monomer is sprayed in a low-pressure vaporizing chamber held at high temperatures to form aerosol of liquid particles of the organic monomer, and the BCB (organic) monomer is instantaneously vaporized via the aerosol to produce a BCB (organic) monomer gas.例文帳に追加
液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン（ＤＶＳ−ＢＣＢ）モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してＢＣＢモノマー（有機モノマー）を瞬時に気化させてＢＣＢモノマーガス（有機モノマーガス）を発生させる。 - 特許庁
The BCB film 110 is obtained by plasma-polymerizing monomer having a divinyl siloxane-bis-benzocyclobutene unit.例文帳に追加
ＢＣＢ膜１１０は、ジビニルシロキサン・ビス・ベンゾシクロブテン単位を有するモノマーをプラズマ重合することにより得る。 - 特許庁
The BCB film 3 is dry-etched, using a Cl2/BCl3/O2 gas and the insulation film mask 4 to form a through hole 6 (c).例文帳に追加
それをマスクにＣｌ_2／ＢＣｌ_3／Ｏ_2ガスを用い、ＢＣＢ膜をドライエッチングし、スルーホール６を形成する（ｃ）。 - 特許庁
A recess 10 is formed, in which the thickness of the BCB film 3 immediately below the resistor film 6 is made smaller in comparison with those of other thicknesses, and the resistor film 6 is formed on the BCB film 3 in the recess 10.例文帳に追加
そして、抵抗体膜６の直下方におけるＢＣＢ膜３の厚みが他に比べて薄くなった凹部１０が形成されており、この凹部１０におけるＢＣＢ膜３の上に抵抗体膜６が形成されている。 - 特許庁
Then a recess 10 wherein the thickness of the BCB film 3 immediately under the resistor film 6 is made smaller in comparison with others is formed, and the resistor film 6 is formed on the BCB film 3 in the recess 10.例文帳に追加
そして、抵抗体膜６の直下方におけるＢＣＢ膜３の厚みが他に比べて薄くなった凹部１０が形成されており、この凹部１０におけるＢＣＢ膜３の上に抵抗体膜６が形成されている。 - 特許庁
Wiring 2 made of copper is provided on an insulating layer 1 made of a polyimide resin via a BCB resin 6.例文帳に追加
ポリイミド樹脂からなる絶縁層１上にＢＣＢ樹脂６を介して銅からなる配線２が設けられている。 - 特許庁
A via hole 10 is provided in the insulating layer 3 and on the wiring 2 of the BCB resin 7, and wiring 4 made of copper is provided in the via hole 10 and on the insulating layer 3 via the insulating layer 3 and a BCB resin 8.例文帳に追加
絶縁層３およびＢＣＢ樹脂７の配線２上の部分にはヴィアホール１０が設けられ、ヴィアホール１０内および絶縁層３上には、絶縁層３とＢＣＢ樹脂８を介して銅からなる配線４が設けられている。 - 特許庁
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