| |  Online-Ressource |
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| Verfasst von: | Hilleringmann, Ulrich [VerfasserIn]  |
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| Titel: | Silizium-Halbleitertechnologie |
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| Titelzusatz: | Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik |
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| Verf.angabe: | Ulrich Hilleringmann |
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| Ausgabe: | 7., überarbeitete und ergänzte Auflage |
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| Verlagsort: | Wiesbaden |
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| Verlag: | Springer Vieweg |
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| E-Jahr: | 2019 |
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| Jahr: | [2019] |
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| Umfang: | 1 Online-Ressource (XI, 275 Seiten) |
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| Illustrationen: | Illustrationen, Diagramme |
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| Gesamttitel/Reihe: | SpringerLink : Bücher |
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| ISBN: | 978-3-658-23444-7 |
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| Abstract: | Das Lehrbuch behandelt die Grundlagen und die technische Durchführung der Einzelprozesse zur mikroelektronischen Schaltungsintegration in der Silizium-Halbleitertechnologie. Die Integrationstechnik setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen Nanometern gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht der Prozessführung erläutert. Der Inhalt Herstellung von Siliziumscheiben Oxidation des dotierten Siliziums Lithografie Ätztechnik Dotiertechniken Depositionsverfahren Metallisierung und Kontakte Scheibenreinigung MOS-Technologien zur Schaltungsintegration Erweiterungen zur Höchstintegration Bipolar-Technologie Montage integrierter Schaltungen Die Zielgruppen Studierende der Fachrichtungen Elektronik, Elektrotechnik, Mikrosystemtechnik, Informatik und Physik Prozessingenieure aus der Halbleiterfertigung, Mikrotechnologen und Schaltungsentwickler Der Autor Prof. Dr.-Ing. Ulrich Hilleringmann leitet das Fachgebiet Sensorik an der Universität Paderborn und lehrt Halbleitertechnologie, Mikrosystemtechnik, Sensorik und Prozessmesstechnik |
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| | Herstellung von Siliziumscheiben -- Oxidation des dotierten Siliziums -- Lithografie -- Ätztechnik -- Dotiertechniken -- Depositionsverfahren -- Metallisierung und Kontakte -- Scheibenreinigung -- MOS-Technologien zur Schaltungsintegration -- Erweiterungen zur Höchstintegration -- Bipolar-Technologie -- Montage integrierter Schaltungen |
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| DOI: | doi:10.1007/978-3-658-23444-7 |
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| URL: | Volltext ; Resolving-System: https://doi.org/10.1007/978-3-658-23444-7 |
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| | Volltext: http://dx.doi.org/10.1007/978-3-658-23444-7 |
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| | DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-658-23444-7 |
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| Schlagwörter: | (s)Silicium / (s)Halbleitertechnologie |
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| | (s)Silicium / (s)Halbleitertechnologie |
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| Datenträger: | Online-Ressource |
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| Dokumenttyp: | Lehrbuch |
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| Sprache: | ger |
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| (Gesamttitel): | Springer eBook Collection. Computer Science and Engineering |
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| Bibliogr. Hinweis: | Erscheint auch als : Druck-Ausgabe |
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| | Erscheint auch als : Druck-Ausgabe: Hilleringmann, Ulrich: Silizium-Halbleitertechnologie. - 7., überarbeitete und ergänzte Auflage. - Wiesbaden : Springer Vieweg, 2019. - XI, 275 Seiten |
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| K10plus-PPN: | 1045545163 |
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| Lokale URL UB: |  Zum Volltext |
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Silizium-Halbleitertechnologie / Hilleringmann, Ulrich [VerfasserIn]; [2019] (Online-Ressource)
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